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CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV)

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最高:{{price.high}} 成交量:9269 市销率:1.05% 每股收益(TTM):-0.7719
最低:{{price.low}} 成交额:31051 市盈率(TTM):0% 52周最高:7
今开:{{price.open}} 振幅:0.6% 净利率:-24.34% 52周最低:3
昨收:{{price.close}} 一天跳空:0.92 毛利率:3718000% 总市值:23054156
买盘
卖盘
分时成交
1周表现 -0.3 1月表现 -10.19 3月表现 -16.04 6月表现 -28.72
YTD表现 -24.38 1年表现 -51.98 5年表现 -6.94 10年表现 -75.81
1天波动率 3.69 1周波动率 5.77 1月波动率 6.1 成交量 9269
1周成交量 72444 1月成交量 274166 符号详情:1天涨跌率 0.6 1周涨跌率 1.21
1月涨跌率 -11.87 1天涨跌 00 1周涨跌 00 1月涨跌 00
今开 3 1周开盘价 3 1月开盘价 3 10天平均成交量 24326.1
30天平均成交量 19106.9 60天平均成交量 15575.32 90天平均成交量 15646.93 相对成交量 0.28
一天跳空 0.92 一周跳空 2.42 一月跳空 -1.61 1天相对成交量 0.38
1周相对成交量 0.95 1月相对成交量 0.73 1月最低低点 3 3月最低低点 3
6月最低低点 3 全部最低低点 00 52周最低 3 1月最高高点 4
3月最高高点 4 6月最高高点 6 全部最高高点 19 52周最高 7
基本每股收益(年度) -0.62 基本每股收益(TTM) -0.77 净收入(年度) -4180000 净收入(TTM) -5260000
毛利率(季度) 1609000 毛利率(年度) 5071000 毛利率(TTM) 3718000 每股收益预期(季度) 0
摊薄每股收益(季度) -0.11 摊薄每股收益(年度) -0.62 摊薄每股收益(TTM) -0.77 营销收入(TTM) -5982000
收入(年度) 24109000 收入(TTM) 21612000 融资CF(TTM) -79000 经营CF(TTM) -3145000
投资CF(TTM) 222000 资本支出(TTM) -375000 自由现金流(TTM) -3520000 自由现金流(年度) -624000
自由现金流(季度) -1841000 净债务(季度) -9722000 权益总额(季度) 24504000 商誉(季度) 00
现金等价物(季度) 10031000 现金等价物(年度) 14025000 手头现金(季度) 10031000 手头现金(季度) 14025000
总负债(季度) 21786000 总负债(年度) 8822000 流动负债(季度) 9116000 流动资产(季度) 9116000
总债务(季度) 309000 总资产(季度) 33845000 企业价值 13332156 价格现金比 2.28
市场表现(1周) 0 市场表现(1个月) 0 市场表现(3个月) 0 市场表现(6个月) 0
市场表现(今年至今) 0 市场表现(1年) 0 市场表现(5年) 0 净利率(年度) -17.34
净利率(TTM) -24.34 毛利率(年度) 21.03 毛利率(TTM) 17.2 股本回报率(年度) -15.04
股本回报率(TTM) -19.77 经营利润率(年度) -19.11 经营利润率(TTM) -27.68
简介
CVD Equipment Corp. engages in the design, development, and manufacture of chemical vapor deposition, gas control, and other state-of-the-art equipment and process solutions. It operates through the following segments: Chemical Vapor Deposition (CVD), Stainless Design Concepts (SDC), CVD Materials, and Corporate. The Chemical Vapor Deposition segment is utilized for chemical Vapor deposition equipment manufacturing. The Stainless Design Concepts segment includes ultra-high purity manufacturing division in Saugerties, New York for gas control systems. The CVD Materials segment offers material coatings for aerospace, medical, electronic, and other application. The Corporate segment refers to the firm’s administration activities. Its services include anti-corrosion, application lab, collaboration, customer support, printed electronics, fabricated quartzware, and process software. The firm serves the aerospace, glass coatings, medical, military, nanomaterials, optoelectronics, semiconductor, and solar photovoltaics markets. The company was founded by Leonard A. Rosenbaum on October 13, 1982 and is headquartered in Central Islip, NY.

公司网站 : http://www.cvdequipment.com

总经理:Emmanuel Lakios

建立时间:1982

公司总部:Central Islip

领域:Electronic technology

行业:Electronic production equipment